Détails sur le produit:
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| Nom de produit: | Oxyde d'hafnium, hafnium (IV) bioxyde | Formule moléculaire: | HfO2 |
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| Couleur: | Blanc ou blanc cassé | Forme: | Poudre |
| CAS: | 12055-23-1 | Point de fusion: | °C 2810 |
| Densité: | 9,68 g/ml | solubilité: | Insoluble dans l'eau |
| Conditions de stockage: | aucune restrictions | Domaine d'application: | Pour la production des matières premières d'hafnium et d'alliage d'hafnium. Il est employé en tant q |
| Surligner: | bioxyde de tellurium,oxyde d'hafnium |
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Oxyde HfO2 CAS 12055-23-1 d'hafnium pour le métal d'hafnium et les matériaux de revêtement
Nom : Oxyde d'hafnium Formule moléculaire : HfO2
CAS : 12055-23-1 Poids moléculaire : 210,49
Description : L'oxyde d'hafnium est une poudre blanche avec les structures cristallines monocliniques, tétragonales et cubiques, insolubles dans l'eau, l'acide chlorhydrique et l'acide nitrique, solubles en acide sulfurique concentré et acide fluorhydrique. Le sulfate d'hafnium [à haute fréquence (SO4) 2] est constitué par la réaction avec de l'acide sulfurique concentré chaud ou le sulfate acide. Après mélange au carbone, le tétrachlorure d'hafnium (HfCl4) est constitué par la chauffage et la chloruration, et le fluosilicate de potassium est constitué par la réaction avec du fluosilicate de potassium pour former le fluohafnate de potassium (K2HfF6). L'oxyde d'hafnium peut être préparé par décomposition thermique ou hydrolyse de sulfate d'hafnium, d'oxychlorure d'hafnium et d'autres composés.
Spécifications :
| Nom | HfO2_99.9 | HfO2_99.5 | |||
| Formule moléculaire | HfO2 | HfO2 | |||
| CAS | 12055-23-1 | 12055-23-1 | |||
| HfO2 | %wt | ≥99.9 | ≥99.5 | ||
| Contenu d'impureté | Fe2O3 | %wt | ≤0.003 | ≤0.010 | |
| SiO2 | %wt | ≤0.005 | ≤0.020 | ||
| Al2O3 | %wt | ≤0.005 | ≤0.010 | ||
| MgO | %wt | ≤0.003 | ≤0.010 | ||
| Cao | %wt | ≤0.002 | ≤0.010 | ||
| TiO2 | %wt | ≤0.001 | ≤0.010 | ||
| Na2O | %wt | ≤0.001 | ≤0.010 | ||
| LOI | % | ≤0.30 | ≤0.40 | ||
| propriété | Poudre blanche | ||||
| Application | Pour la production des matières premières d'hafnium et d'alliage d'hafnium. Il est employé en tant que le matériel de revêtement, le réfractaire, l'anti revêtement radioactif et catalyseur. | ||||
| paquet | Emballage conventionnel, conditionnement souple selon les besoins de client | ||||
Emballage : 25 kilogrammes dans le seau en plastique, fournissent également le petit paquet : 100g, 500g, et d'autres petits paquets
Utilisations : L'oxyde d'hafnium est la matière première pour la production de l'hafnium en métal et de l'alliage d'hafnium. Il est employé en tant que le matériel de revêtement, le réfractaire, l'anti revêtement radioactif et catalyseur. Le bioxyde d'hafnium est un genre de matériel en céramique avec l'espace de bande large et la constante diélectrique élevée. Récemment, il a attiré une grande attention dans l'industrie, particulièrement dans le domaine de la microélectronique. Puisqu'il est le plus susceptible de remplacer le silice d'isolateur de porte (SiO2) du transistor à effet de champ de semiconducteur métal oxyde (transistor MOSFET), le dispositif de noyau du circuit intégré basé sur silicium, pour résoudre la taille du développement de la structure traditionnelle de SiO2/SI dans le problème de limite de transistor MOSFET.
Personne à contacter: Miss. Wang wendy
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